Настольная система ALD

Компания Xiamen Yunmao Technology Co., Ltd. специализируется на исследованиях, разработке и производстве оборудования для тонкопленочного осаждения в таких областях, как литий-ионные аккумуляторы, фотовольтаика (солнечная энергетика), Mini/Micro LED, передовая оптика, карбид кремния (SiC), интегральные схемы, сверхпроводящие материалы и устройства.

MINI — это сверхкомпактная, простая в эксплуатации и мощная настольная система атомно-слоевого осаждения (ALD), способная осуществлять равномерное и контролируемое осаждение на 4- и 6-дюймовых пластинах и микро-/нанопорошках. Система оснащена запатентованной подложкой для порошковых образцов, полностью автоматическим температурным контролем, баллонами с прекурсорами для ALD, автоматическими термостатическими клапанами и промышленной системой безопасности. Это идеальный инструмент для исследований и применения в области передовых энергетических материалов и новых наноматериалов.

Преимущества продукта

✓ Компактность, бесшумность, удобство
✓ 4 группы быстросъемных источников прекурсоров
✓ Полностью автоматизированный интерфейс
✓ Выдвижная загрузка

Области применения

✓ Полупроводниковая промышленность: диэлектрики, суперконденсаторы, диоды и т.д.
✓ Нанокатализ: фотокатализ, электрокатализ
✓ Получение оптических пленок: антибликовые покрытия, тепловидение, УФ-чувствительность и др. направления
✓ Аэрокосмическая отрасль: теплоизоляционные покрытия для цилиндров двигателей, антиоксидантные покрытия
✓ Перовскитные солнечные элементы

Технические параметры

• Контроль температуры образца: RT~ 400 °C

• Равномерность пленки: <1%

• Размер загружаемого образца: 4/6 дюйма

• Компактная конструкция, малая требуемая площадь для установки
  4 дюйма: 520x400x400 мм
  6 дюймов: 590x480x480 мм

• Время откачки реакционной камеры: ≤10 с, время подачи газа: <5 мс