Магнетронный источик
на оборудование
Магнетронный источник модели FISSION для компактных лабораторных систем HEX обеспечивает использование широкого спектра материалов для формирования тонкопленочных покрытий. Существуют версии для мишеней 1″ и 2″. Магнетронный источник комплектуется магнитами из SmCo и позволяет использовать мишени толщиной от 1 до 6 мм. Типичный коэфициент использования мишени немагнитных материалов составляет 43%. Все источники модели FISSION оснащаются заслонками и линией подачи рабочего газа. Поддерживается работа в режиме постоянного тока (DC). Геометрия системы HEX поддерживает установку до 3-х магнетронных источников, что позволяет осуществлять совместное осаждение из нескольких истчоинков, а также формировать сложные многослойные покрытия.
Совместимые системы:
- HEX
Приложения
- Магнетронное распыление
- Подготовка образцов для СЭМ
- Обучение вакуумной технологии
Модель | FISSION |
---|---|
Диаметр мишени | 2″ (50мм) |
Максимальный толщина мишени | 6 мм |
Охлаждение | вода, 0,5 л/мин |
Подача рабочего газа | встроенная, через газовый капюшон |