Пробоподготовка для ПЭМ: Gentle Mill (модель IV8)

img
Установка GENTLE MILL от производителя TECHNOORG LINDA предназначена для пробоподготовки для просвечивающих электронных микроскопов (ПЭМ), разработана для выполнения финальной полировки, очистки и улучшению качества образцов, которые уже прошли предварительную высокоэнергетическую ионную обработку, например с помощью FIB.




Отправить запрос на оборудование

 


GENTLE MILL

рабочая станция для высококачественной ионной обработки TEM/FIB образцов

  • • Надежный и быстрый метод для очистки и постобработки образцов в применении к TEM и FIB исследованиям.
  • • Полностью автоматические процедуры по предустановленным рецептам.
  • • Применение для промышленных задач.
  • • Специальный держатель образцов для 3D исследований.
  •  

Описание

Прибор GENTLE MILL от производителя TECHNOORG разработан для выполнения финальной полировки, очистки и улучшению качества образцов, которые уже прошли предварительную высокоэнергетическую ионную обработку, например с помощью FIB. Модель GENTLE MILL рекомендована для тех, кому необходимо подготовить XTEM, HRTEM, STEM образцы без дефектов и практически без повреждений насколько это возможно. Кроме того, прибор подходит для быстрого утонения плоских, механически отполированных образов (< 25 мкм).

Искусство ионной обработки

Рабочая станция GENTLE MILL оперирует запатентованным ионным источником низкой энергии на основе горячего катода. Применение предельно малого значения тока ионного пучка гарантирует минимальный эффект от ионной имплантации и от различных повреждений обрабатываемой поверхности. Особенная конструкция ионного источника обеспечивает высокую плотность тока ионного пучка. Все параметры ионной пушки, такие как, например, ускоряющее напряжение и ток катода, автоматически контролируются цифровой системой с обратной связью. Тем не менее, в случае необходимости, все они могут быть изменены в ручном режиме непосредственно в процессе работы прибора. Все начальные значения рабочих параметров ионной пушки, выставляемые как автоматически или в ручном режиме, напрямую отображаются на экране компьютера управления.

 

Бездефектная пробоподготовка

Установка GENTLE MILL обеспечивает пользователя исчерпывающими техническими возможностями для создания практически бездефектных образов путем обработки поверхностей пучком ионов низкой энергии, что позволяет изучать наноструктуры, как синтезированные, так и природного происхождения в применении ко всем областям современной науки и материаловедения.


Ионная пушка низкой энергии

• Энергия ионов: 100-2000 эВ;
• Плотность тока ионов: максимально 10 мА/см2;
• Ток пучка: 7 -80 мкА;
• Диметр пучка: 750-1200 мкм;
• Модификация (IV 5) с ручным контролем или модификация (IV 8) с электронной оптимизацией подачи рабочего газа;
• Скорость травления: 28 мкм/час для с-Si при энергии пучка 2000 эВ, угле 30° падения.

Столик образцов

• Угол травления: от 0° до 40° с шагом 0.1°;
• Автоматический контроль вращения и осцилляции плоскости образца в диапазоне от ±10° до ±60° с шагом 10°;
• Диапазон толщин TEM образцов: от 30 до 200 мкм.

Замена образцов

• Вакуумный шлюз для быстрой замены образцов;
• Полностью механическая, прямая система загрузки образцов;
• Специализированные титановые скобы и система герметизации для XTEM образцов.

Вакуумная система

• Безмасляный форвакуумный и турбомолекулярный насосы с датчиками контроля давления в системе.

Рабочий газ

• 99,999% чистый аргон в рабочем диапазоне давлений 1.3-1.7 бар с высокоточной системой контроля подачи газа и моторизованным игольчатым клапаном для модификации IV 8.

Видео контроль

• CMOS камера высокого разрешения с ручным зумом в диапазоне увеличений от 50 до 400 крат.

Программное обеспечение

• Встроенный PC;
• Дружественный графический интерфейс с интуитивно простым управлением;
• Авто настройки для выполнения ионного травления, авто контроль процесса ионной обработки и параметров ионных источников;
• Полностью автоматизированный режим работы для модификации IV 8;
• Предварительно заданные рецепты работы или настраиваемые вручную параметры ионного травления и полировки поверхности;
• Остановка процесса травления на основе оптических данных модуля анализа изображений (определение момента сквозного травления или контроль топологии обрабатываемой поверхности).

Система питания

• 100-120 В/3.0 A/60 Гц или 220-240 В/1.5 А/50 Гц.

Модификации

• GENTLE MILL IV 5 – стандартная модель;
• GENTLE MILL 3 IV полностью автоматизированная модель;